半导体制造废水
 
 半导体集成电路（英文名：semiconductor integrated circuit），是指在一个半导体衬底上至少有一个电路块的半导体集成电路装置。
半导体集成电路是将晶体管，二极管等等有源元件和电阻器，电容器等无源元件，按照一定的电路互联，“集成”在一块半导体单晶片上，从而完成特定的电路或者系统功能。
 
半导体集成电路是指在半导体基板上，利用氧化、蚀刻、扩散等方法，将众多电子电路组成各式二极管、晶体管等电子组件作在一微小面积上，以完成某一特定逻辑功能（例如：AND、OR、NAND等）， 进而达成预先设定好的电路功能。半导体的生产工艺要求高，涵盖光刻、精密切割和研磨等各种复杂工艺，生产半导体的过程会产生大量的废水， 半导体废水污染物种类多，成分复杂，通常包括多种重金属废水，有机废水以及硅和氟废水；同时半导体PCW系统的制程冷却水须过滤处理以回用（见水处理应用）。
清洗工艺及废水来源

工艺	清洁源	容器	清洁效果
剥离光刻胶	氧等离子体	平板反应器	刻蚀胶
去聚合物	硫酸:水=6:1	溶液槽	除去有机物
去自然氧化层	氟化氢:水<1:50	溶液槽	产生无氧表面
旋转甩干	氮气	甩干机	无任残留物
RCA1#(碱性)	氢氧化铵:过氧化氢:水=1:1:1.5	溶液槽	除去表面颗粒
RCA2#(碱性)	氯化氢:过氧化氢:水=1：1：5	溶液槽	除去重金属粒子
DI清洗	去离子水	溶液槽	除去清洗溶剂

 
问题描述
1.分产生废水量大；
2.废水成复杂，含有各种过渡性质的金属如硅、锗等，同时含有较高含量的氟；
3.废水中含有难以处理的较高浓度的 COD。
 
产品应用
 
1.陶瓷膜过滤系统；
2.占地面积小，集中管理，智能控制；
3.产水质量高，同时去除废水中的磷酸盐和COD；
4.耐化学酸碱性佳，寿命长，维护简便；
5.简化传统工艺，无需添加药剂。
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