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关于二级RO CDI 抛光混床技术在半导体封装产线超

发布日期：2020-11-24 14:40

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半导体工业的电子芯片是我国的大宗进口商品，我国的芯片行业发展比较缓慢，近期国家的政策也倾向于大力发展自主性的半导体芯片。在半导体行业，超纯水不同于其他行业的超纯水的要求，有极其严苛的水质要求。
超纯水（Ultrapure water）又称UP水，是指电阻率达到18 MΩ*cm（25℃）的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。可以用于超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制备过程 
超纯水处理:既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。
超纯水处理，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm(25℃)。
在半导体产品制造过程中，很多电子元器件生产过程中需要大量超纯水，且对水质要求特别严苛。由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分；在有些半导体厂中， 也有用“阴床+阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定。
 产品优势
1.避免传统离子再生耗费的大量酸碱，对环境更友好；
2.克服传统离子设备再生周期相对较长；
3.超滤反洗排水、一级RO浓水排水和CEDI浓水排水及其回收利用措施，利于节能减排；
4.节约水资源及半导体制造单位的运行成本。
产品应用
预处理部分
1.多介质过滤器+活性炭过滤器;
2.粗过滤器+超滤装置。
反渗透部分
反渗透膜
电去离子部分
EDI模块和 CEDI模块。
抛光混床
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